我國科學(xué)家首次獲得納米級光雕刻三維結構
14日夜,國際頂級學(xué)術(shù)期刊《自然》發(fā)表了我國科學(xué)家在下一代光電芯片制造領(lǐng)域的重大突破。南京大學(xué)張勇、肖敏、祝世寧領(lǐng)銜的科研團隊,發(fā)明了一種新型“非互易飛秒激光極化鐵電疇”技術(shù),將飛秒脈沖激光聚焦于材料“鈮酸鋰”的晶體內部,通過(guò)控制激光移動(dòng)的方向,在晶體內部形成有效電場(chǎng),實(shí)現三維結構的直寫(xiě)和擦除。這一新技術(shù),突破了傳統飛秒激光的光衍射極限,把光雕刻鈮酸鋰三維結構的尺寸,從傳統的1微米量級(相當于頭發(fā)絲的五十分之一),首次縮小到納米級,達到30納米,大大提高了加工精度。
這一重大發(fā)明,未來(lái)或可開(kāi)辟光電芯片制造新賽道,有望用于光電調制器、聲學(xué)濾波器、非易失鐵電存儲器等關(guān)鍵光電器件芯片制備,在5G/6G通訊、光計算、人工智能等領(lǐng)域有廣泛的應用前景。
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